具有全局蓝图指导和布局控制的高分辨率艺术品绘制

图像外画将图像延伸到其原始边界之外，需要无缝的风格集成和全局连贯的场景完成。基于扩散模型的成功，最近的方法在视觉质量方面取得了实质性的改进。然而，在实践中，高分辨率外画通常是通过围绕固定源图像的渐进扩展来执行的，特别是在艺术作品场景中。尽管取得了这些进展，现有方法仍然面临三个关键限制：（i）缺乏可靠的全球规划机制，这会导致高分辨率下的结构不稳定和误差积累； (ii) 除了文本提示之外，空间可控性有限，导致难以将对象放置在用户指定的位置； (iii) 由固有的顺序补丁生成导致的高推理延迟。为了解决这些问题，我们提出了一种全局蓝图引导的两阶段扩散框架，用于具有高效并行合成的布局可控的高分辨率外画。在第 1 阶段，我们使用布局适配器生成低分辨率全局蓝图，该适配器将边界框条件注入稳定扩散修复主干，在提取全局引导特征的同时生成全局一致的结构计划。在第 2 阶段，我们通过注入源自蓝图的全局指导并使用前向扩散的低频保留特性从蓝图中初始化每个补丁来并行合成高分辨率局部补丁。这种设计消除了顺序依赖性，同时保持全局一致性。对大型艺术品数据集的大量实验表明，与之前的基线相比，视觉保真度得到了提高，语义一致性更强，推理时间大大减少，同时独特地支持艺术品外画的显式布局控制。