VPEvolve：以工具试验和经验技能库优化光刻工艺

随着工程师添加本地规则来修复新发现的光刻热点，光学邻近校正 (OPC) 方法也在不断发展。每次修正都可以与现有规则交互，而商业工具试验的经验教训仍然分散在代码和日志中。 \system 将虚拟工艺工程师（VPE）Harness与经过测量的工程经验技能库相结合。该Harness为冻结的语言模型配备了流程手册、布局分析、配方编辑和商业工具评估。执行模型建议更改全局参数、局部目标规则或诊断试验。每次评估后，LLM反思者和策展人都会将测量到的反应转化为与证据相关的判断。执行模型在下一次试验前检索这些判断。可行的改进更新保留的配方；每一次测量的试验都会通知技能库来指导下一次编辑。模型权重保持固定。在基于 FreePDK45 的基准测试中，每个案例进行 10 次商业工具评估，\system 将 Poly 上的平均每个案例最大边缘放置误差从 18.294 nm 减少到 5.361 nm，在 Metal1 上从 22.052 nm 减少到 15.692 nm。每个最终配方都满足预定义的质量约束，并将最大误差改善至少 0.1 nm。